Metal-assisted chemical etching of silicon in HF–H2O2
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est · Centre National de la Recherche Scientifique
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Abstract
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Authors
3- CCCamille Chartier
Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est, Centre National de la Recherche Scientifique
- SBStéphane BastideCorresponding
Centre National de la Recherche Scientifique, Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est
- CLClaude Lévy‐ClémentCorresponding
Centre National de la Recherche Scientifique, Institut de Chimie et des Matériaux Paris-Est
Topics & keywords
Topics
Keywords
- Dissolution
- Etching (microfabrication)
- Silicon
- Nanoparticle
- Chemical engineering
- Metal
- Isotropic etching
- Polishing
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